中国光刻机技术获重大突破，创新力量引领行业前沿
中国光刻机技术取得最新突破，标志着中国在半导体制造领域迈出了重要一步。这一技术突破有望提高光刻机的性能，加速芯片制造过程，并推动国内半导体产业的发展。该技术的突破将促进国内自主创新能力的提升，有望缩小与国际先进水平的...
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